Advanced Materials

Годы охвата Scopus: с 1989 по настоящий момент

Издатель:Wiley-Blackwell

Более 30 лет «Advanced Materials» приносит вам последние достижения в области материаловедения. Прочитайте тщательно отобранные, высококачественные обзоры, отчеты о ходе работ, сообщения и новости исследований на острие химии и физики функциональных материалов. У продвинутых материалов Импакт-фактор 25,809 (Импакт-фактор журнала за 2018 год, Отчеты о цитировании журнала (Clarivate Analytics, 2019)). Одним из ключей к успеху Advanced Materials является их выраженная междисциплинарность.

	Джоанна Айзенберг, Гарвардский университет, Кембридж, США
	Пуликель М. Аджаян, Университет Райса, Хьюстон, США
	Кацухико Арига, Национальный институт материаловедения, Цукуба, Япония
	Женан Бао, Стэнфордский университет, США
	Gui Bazan, UC Santa Barbara, США
	Пол В. М. Блом, MPI Майнц, Германия
	Джиллиан Бурьяк, Университет Альберты, Эдмонтон, Канада
	Пол Д. Калверт, Массачусетский университет, Дартмут, США
	Сяодун Чен, технологический университет Наньян, Сингапур
	Синьлян Фэн, ТУ Дрезден, Германия / Шанхайский университет Цзяо Тонг, Китай
	Ричард Х. Френд, Кембриджский университет, Великобритания
	Жорж Хадзиоанну, Университет Бордо, Франция
	Андреас Хирш, Университет Эрланген-Нюрнберг, Германия
	Вэй Хуан, Северо-Западный политехнический университет, Сиань, Китай
	Taeghwan Hyeon, Сеульский национальный университет, Корея
	Дэвид Каплан, Университет Тафтса, Медфорд, США
	Такаси Като, Токийский университет, Япония
	Лиор Кроник, Институт Вейцмана, Реховот, Израиль
	Йорг Лаханн, Университет Мичигана, Энн Арбор, США
	Дженнифер Льюис, Гарвардский университет, Кембридж, США
	Бин Лю, Национальный университет Сингапура
	Чжунфан Лю, Пекинский университет, Пекин, Китай
	Линн Лу, Принстонский университет, США
	Cefe López, Институт современного искусства Мадрида (CSIC), Испания
	Ричард Д. Маккалоу, Гарвардский университет, Кембридж, США
	EW (Bert) Meijer, TU Эйндховен, Нидерланды
	Джоэл С. Миллер, Университет Юты, Солт-Лейк-Сити, США
	Чад А. Миркин, Северо-Западный университет, Эванстон, США
	Стюарт С.П. Паркин, MPI по физике микроструктуры, Галле, Германия
	Майкл Дж. Сейлор, UC Сан-Диего, США
	Паоло Самори, ISIS-UdS, Страсбург, Франция
	Ферди Шют, MPI für Kohlenforschung, Мюльхайм, Германия
	Молли Стивенс, Имперский колледж Лондон, Великобритания
	Л.Дж. Ван, Китайская академия наук, Пекин, Китай
	Сюнь Ван, Университет Цинхуа, Пекин, Китай
	Ян Ян, UC Лос-Анджелес, США
	Дэцин Чжан, ICCAS, Пекин, Китай
	Хуа Чжан, Городской университет Гонконга, Гонконг
	Ни Чжао, Китайский университет Гонконга, Китай

Advanced Materials

Встановити українську за замовчуванням?